M Plan Apo 2x 378-801-6明視場物鏡Mitutoyo三豐
明視場用物鏡
M Plan Apo /
M Plan Apo HR
VMU WIDE VMU FS70 MF-U Hyper MF-U

日本三豐物鏡(紫外、近紫外、可視、近紅外)
用于半導體、電子、液晶相關等產品的生產
品質管理系統、實驗研究裝置使用的光學系統
外觀檢查系統的嵌入式光學單元
微生物等運動物體的觀察 等
可安裝數碼相機，通過外部顯示器進行觀察和拍攝。
可實現橫向水平、上下顛倒等高自由度的固定方法。
與簡易支架一起使用，還可作為緊湊型顯微鏡使用。
★金屬、樹脂、印刷面等表面觀察拍攝
★微量流體分析用光學系統
★以觀察和分析細胞、微生物等為目的的光學系統

M Plan Apo NIR系列等支持紅外區的物鏡組合，可在紅外線下實
現可見光下做不到的非破壞性檢查。
★液晶薄膜、硅基板等的厚度測量
★MEMS內部的非破壞評價、三維安裝評價
★半導體封裝(IC)的內部觀察、晶圓鍵合空洞評價傳感器
★紅外分光特性分析

通過VMU-LB和固定倍率觀察用相機卡口的
組合，能夠對同一位置以不同倍率同時觀
察。
(低倍率側：2/3型、高倍率側：1/2型等)

通過與YAG激光(1064nm、532nm、355nm、266nm)物鏡組合，可實現高精度、高
品質加工。
與簡易支架一起使用，還可作為緊湊型顯微鏡使用。
保護膜、有機薄膜等的剝離
金、鋁等金屬配線切割、下層圖案的外露
FPD的各種缺陷修正
光掩模修正
標記、修剪、圖像形成、局部退火、劃線

憑借長動作距離設計的物鏡，實現優異的操作性。
通過與激光加工裝置組合，還可支持不良分析→部分修正無縫銜接的系統。
此外，還提供支持隔著玻璃的、真空內的外觀檢查的系統

 M Plan Apo
M Plan Apo 1× ※1 378-800-3 0.025 11.0 200 11.0 440 24 4.8×6.4 300
M Plan Apo 2× ※2 378-801-6 0.055 34.0 100 5.0 91 12 2.4×3.2 220
M Plan Apo 5× 378-802-6 0.14 34.0 40 2.0 14 4.8 0.96×1.28 230
M Plan Apo 7.5× 378-807-3 0.21 35.0 26.67 1.3 6.2 3.6 0.64×0.85 240
M Plan Apo 10× 378-803-3 0.28 34.0 20 1.0 3.5 2.4 0.48×0.64 240
M Plan Apo 20× 378-804-3 0.42 20.0 10 0.7 1.6 1.2 0.24×0.32 270
M Plan Apo 50× 378-805-3 0.55 13.0 4 0.5 0.9 0.48 0.10×0.13 290
M Plan Apo 100× 378-806-3 0.70 6.0 2 0.4 0.6 0.24 0.05×0.06 320