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          M Plan Apo HR 10×378-788-4三豐明視場物鏡

          更新時間:2024-07-30

          簡要描述:

          M Plan Apo HR 10×378-788-4三豐明視場物鏡
          明視場用物鏡
          M Plan Apo /
          M Plan Apo HR
          VMU WIDE VMU FS70 MF-U Hyper MF-U

          型號:廠商性質(zhì):經(jīng)銷商瀏覽量:918
          品牌MITUTOYO/日本三豐貨號378-788-4
          規(guī)格M Plan Apo HR 10×供貨周期現(xiàn)貨
          主要用途顯微鏡應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池

          M Plan Apo HR 10×378-788-4三豐明視場物鏡

           明視場用物鏡
          M Plan Apo /
          M Plan Apo HR
          VMU WIDE VMU FS70 MF-U Hyper MF-U

           ·無限遠校正
          ·明視場觀察用
          ·長工作距離
          ·平場復(fù)消色差規(guī)格

           M Plan Apo HR
          M Plan Apo HR 5× ※3 378-787-4 0.21 25.5 40 1.3 6.2 4.8 0.96×1.28 285
          M Plan Apo HR 10× ※3 378-788-4 0.42 15.0 20 0.7 1.60 2.4 0.48×0.64 460
          M Plan Apo HR 50× 378-814-4 0.75 5.2 4 0.4 0.49 0.48 0.10×0.13 400
          M Plan Apo HR 100× 378-815-4 0.90 1.3 2 0.3 0.34 0.24 0.05×0.06 410

           上述規(guī)格欄中的分辨力和物鏡單體焦深是根據(jù)基準波長(λ=0.55μm)計算得出的值。
          觀察反射率較低的檢測對象時,建議搭配使用與所用顯微鏡相對應(yīng)的偏光裝置。
           觀察反射率較低的檢測對象時,建議搭配使用M Plan Apo 2 × 1/4波長板(No.02ALN370)和偏光裝置。注)工作距離會縮短4mm。
          安裝物鏡單體時的規(guī)格(根據(jù)顯微鏡的不同,有可能不符合標注規(guī)格)。
          在垂直反射照明下單獨使用時,請使物鏡的入射照明光通量達到16.8mm(物鏡瞳徑)以上。

           顯微鏡單元
          物鏡(紫外、近紫外、可視、近紅外)

          三豐運用自主開發(fā)的光學(xué)技術(shù)和長年積累的精密加工技術(shù),推出了豐富的顯微鏡單元和物鏡產(chǎn)品陣容
          在各個應(yīng)用領(lǐng)域博得了世界各地用戶的喜愛。
          使用示例: 半導(dǎo)體、電子、液晶相關(guān)等產(chǎn)品的生產(chǎn)
          品質(zhì)管理系統(tǒng)、實驗研究裝置使用的光學(xué)系統(tǒng)
          外觀檢查系統(tǒng)的嵌入式光學(xué)單元
          微生物等運動物體的觀察 等

          可安裝數(shù)碼相機,通過外部顯示器進行觀察和拍攝。
          可實現(xiàn)橫向水平、上下顛倒等高自由度的固定方法。
          與簡易支架一起使用,還可作為緊湊型顯微鏡使用。
          ★金屬、樹脂、印刷面等表面觀察拍攝
          ★微量流體分析用光學(xué)系統(tǒng)
          ★以觀察和分析細胞、微生物等為目的的光學(xué)系統(tǒng)

          通過與YAG激光(1064nm、532nm、355nm、266nm)物鏡組合,可實現(xiàn)高精度、高
          品質(zhì)加工。
          與簡易支架一起使用,還可作為緊湊型顯微鏡使用。
          ★保護膜、有機薄膜等的剝離
          ★金、鋁等金屬配線切割、下層圖案的外露
          ★FPD的各種缺陷修正
          ★光掩模修正
          ★標記、修剪、圖像形成、局部退火、劃線

           

          M Plan Apo HR 10×378-788-4三豐明視場物鏡

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