Mitutoyo M Plan Apo NUV 10×

 Mitutoyo M Plan Apo NUV 10×

Mitutoyo M Plan Apo NUV 10×

 明視場用近紫外區校正 物鏡
M Plan Apo NUV /
M Plan Apo NUV HR

 VMU FS70

 ·無限遠校正
·明視場觀察及激光加工用
·長工作距離
·平場復消色差規格
· 對近紫外區(波長355nm)到可見區(常用觀察波長區)進
行了校正設計。
· NUV HR：高分辨力規格···分辨力提高 約50％以上
(與標準型相比)

M Plan Apo NUV 10× 378-809-5 0.28 30.5 20 1 3.5 2.4 0.48×0.64 255

視頻顯微鏡單元
VMU 
大視場視頻顯微鏡單元
WIDE VMU 

精密顯微鏡單元
FS70 
明視場用物鏡
(長工作距離
)
M Plan Apo/M Plan Apo HR 
明視場用物鏡
(超長工作距離
)
M Plan Apo SL 
明視場用物鏡
(玻璃厚度校正)
G Plan Apo
明暗視場物鏡
(長工作距離)
BD Plan Apo/BD Plan Apo HR
明暗視場物鏡
(超長工作距離
)
BD Plan Apo SL
(近紅外區
)
M Plan Apo NIR/M Plan Apo NIR HR,
M Plan Apo NIR B
明視場用物鏡
(液晶玻璃厚度校正 近紅外區
)
LCD Plan Apo NIR/LCD Plan Apo NIR HR 
明視場用物鏡
(近紫外區
)
M Plan Apo NUV/M Plan Apo NUV HR 
明視場用物鏡
(液晶玻璃厚度校正 近紫外區

LCD Plan Apo NUV/LCD Plan Apo NUV HR
明視場用物鏡
(紫外區
)
M Plan UV 
明視場用物鏡
(液晶紫外區
)
LCD Plan UV
成像
(鏡筒
)透鏡
MT 
測量顯微鏡用物鏡
ML 
定心顯微鏡用物鏡
CF 
大視場目鏡
/分劃板
WF/UWF
各種顯微鏡選件
支架、工作臺、照明裝置 
外形尺寸
(VMU/WIDE VMU/FS70

 
適用于金屬、樹脂、印刷表面、微小運動物體等各種觀察對象。
·適用于使用YAG激光(近紅外、可見、近紫外、紫外)的微細加工※ ※不保證激光振蕩器配備系統的綜合性能和安全性。
半導體電路的切割、修整、修正、打標、薄膜(絕緣膜)的去除和加工、液晶彩色濾光片等的修復(修正缺陷)等。
·適用于紅外光學系統※
硅類的內部觀察、紅外光譜特征分析等。※另需紅外光源和紅外攝像機等。
·反射照明光學系統標配帶孔徑光闌遠心照明
需要均勻照明的圖像處理。可用于尺寸測量、形狀檢查、定位等。
·VMU-LB和VMU-L4B強化了顯微鏡主體的剛性和綜合性能(與以往產品相比)
·除標準規格外，還可按照需求設計制作雙相機、雙倍率(低倍率、高倍率)等產品

 小巧的萬能工具顯微鏡可安放在任何位置。
• 配有新設計的LED 照明，可以進行清晰觀察
測量，并具有顏色再現性。
• 設置可選的LED 環形照明，可以進行豐富的
觀察測量。
• 雖然外形小巧，但大可完成115mm 的測
量高度。
• 安裝可選的數顯測微頭(MHD-50MB)，可以
進行更容易的數顯測量。• 目鏡座內置游標尺(角度分度值) 能地進
行角度測量。
• 使用可選的物鏡/ 目鏡，總放大率可在20-
200X 范圍內變化