378-844-15 M Plan UV 10×

 378-844-15 M Plan UV 10×

 明視場用紫外區校正 物鏡
M Plan UV

Mitutoyo三豐物鏡 紫外、近紫外、可視、近紅外

Mitutoyo三豐顯微鏡單元
日本三豐物鏡(紫外、近紫外、可視、近紅外)
用于半導體、電子、液晶相關等產品的生產
品質管理系統、實驗研究裝置使用的光學系統
外觀檢查系統的嵌入式光學單元
微生物等運動物體的觀察 等
可安裝數碼相機，通過外部顯示器進行觀察和拍攝。
可實現橫向水平、上下顛倒等高自由度的固定方法。
與簡易支架一起使用，還可作為緊湊型顯微鏡使用。
★金屬、樹脂、印刷面等表面觀察拍攝
★微量流體分析用光學系統
★以觀察和分析細胞、微生物等為目的的光學系統

M Plan Apo NIR系列等支持紅外區的物鏡組合，可在紅外線下實
現可見光下做不到的非破壞性檢查。
★液晶薄膜、硅基板等的厚度測量
★MEMS內部的非破壞評價、三維安裝評價
★半導體封裝(IC)的內部觀察、晶圓鍵合空洞評價傳感器
★紅外分光特性分析

通過VMU-LB和固定倍率觀察用相機卡口的
組合，能夠對同一位置以不同倍率同時觀
察。
(低倍率側：2/3型、高倍率側：1/2型等)

通過與YAG激光(1064nm、532nm、355nm、266nm)物鏡組合，可實現高精度、高
品質加工。
與簡易支架一起使用，還可作為緊湊型顯微鏡使用。
★保護膜、有機薄膜等的剝離
★金、鋁等金屬配線切割、下層圖案的外露
★FPD的各種缺陷修正
★光掩模修正
★標記、修剪、圖像形成、局部退火、劃

378-844-15 M Plan UV 10×

·無限遠校正
·明視場觀察及激光加工用
·長工作距離
·平場規格
· 對紫外區(波長266nm)和可見區(常用觀察波長區)進行
了校正設計。
重點保證了紫外區的高透射率